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激光誘導結晶
設備
| LIC
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應用領域
非晶材料的激光結晶及原位雜質激活
產品特點
全球首創，12寸量產設備
高均勻性的全自主LIET光學系統
低至5mJ/cm
2
的能量密度調控精度
nS級精確脈寬控制
型號
LA2540G
激光波長
527nm
晶圓尺寸
12寸
能量密度調控精度
5mJ/cm
2
光斑頂部不均勻性率
≤1%
焦深范圍
5mm
工藝效果
一次掃描完成結晶和激活工藝
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晶圓制造
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淺結/超淺結晶圓退火
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SiC
晶圓激光退火
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激光誘導外延生長設備
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晶圓激光標刻機
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